به گزارش پایگاه خبری «عصر خودرو» به نقل از ایسنا، یکی از شرکت‌های دانش بنیان مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران فعالیت خود را از سال 1389 در حوزه فناوری پلاسما آغاز کرد. طراحی و ساخت دستگاه لایه نشانی شیمیایی بخار توسط پلاسمای جریان مستقیم (DC-PECVD) برای استفاده در تحقیق، توسعه و ساخت فیلم‌های نازک، و همچنین دستگاه زدایش عمودی سیلیکون (Deep Reactive Ion Etch) به عنوا ن ابزاری برای ایجاد ساختارهای نانویی از محصولات دانش بنیان این شرکت است.

لایه‌نشانی شیمیایی بخار (CVD) یکی از مهمترین روش‌های پوشش‌دهی است که امروزه کاربردهای آن در حوزه صنعتی و تحقیقاتی بسیار گسترده شده است. لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار پلاسمایی (PECVD) نیز نوعی فرآیند CVD است که حضور محیط پلاسما همه فرآیندهای CVD را تحت تاثیر قرار می‌دهد و سرعت و بازدهی انجام واکنش‌های مرتبط را در دماهای به نسبت پایین‌تر (نسبت به استفاده از فرآیند CVD بدون حضور پلاسما) را افزایش و ارتقا می‌دهد. این روش اغلب برای تولید نانولوله‌های کربنی استفاده می‌شود.

علی اخوان فراهانی مدیر عامل این شرکت در این‌باره گفت:  دستگاه  زدایش عمودی سیلیکون از جمله تجهیزات دارای فناوری‌ های‌تک است که در ساخت شتاب‌سنج‌ها و ادوات میکرومتری صنایع الکترونیک کاربرد دارد. از جمله صنایع خودرو سازی از این دستگاه در ساخت شتاب‌سنج‌های به کار رفته  بر روی ایر بگ خودرو استفاده می‌کنند.

اخوان، ژیروسکوپ‌های جهت یاب ماهواره بر را از دیگر کاربردهای این دستگاه نام برد و یادآور شد: نمونه داخلی ساخته شده یک هشتم نمونه مشابه خارجی قیمت دارد. قیمت نمونه خارجی بیش از 400 هزار دلار برآورد شده است.

وی با بیان اینکه این دستگاه از جمله مواردی بود که در همان ابتدای تحریم‌ها، فروش آن به ایران ممنوع شد، خاطر نشان کرد: همین مسئله انگیزه‌ای شد تا با استفاده از نیروهای جوان  و متخصص داخلی نسبت به ساخت و  توسعه آن در داخل، اقدام کنیم.